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ei系列批量型高真空系統

支持各種蒸發源(即EB,RH,EB + RH等); 基材托架與每個過程相一致的(即剝離,行星,衛星等); 支持各種基材; 基材尺寸支持從φ5.08厘米到15.24厘米,矩形基材,硅,化合物,玻璃和陶瓷; 在LCD觸摸面板上顯示和操作; 卓越的PC操作系統和功能(獨特功能,數據記錄,維護輔助功能)。


ei系列批量型高真空系統

      描述:


      這是一種批量型高真空蒸發系統,用于在基底上沉積金屬和氧化物。由于該系統的操作面板具有實現自動真空和沉積過程的集成控制功能,因此建議用于研發和小規模生產。


      特性:


      支持各種蒸發源(即EB,RH,EB + RH等)。


      基材托架與每個過程相一致的(即剝離,行星,衛星等)。


      支持各種基材; 基材尺寸支持從φ5.08厘米到15.24厘米,矩形基材,硅,化合物,玻璃和陶瓷。


      在LCD觸摸面板上顯示和操作。


      卓越的PC操作系統和功能(獨特功能,數據記錄,維護輔助功能)。


      應用:


      電源設備的復合相關裝置


      LED,LD和高速設備


      各種研發


      其他通用電子設備


     




ei-5


1. 基板

 1) 材料

 2) 尺寸規格

 

?硅(Si) 砷化鎵(GaAs) 玻璃陶瓷等 

?Φ2   ~8inch及各種形狀的基板

2. 真空條件

 1) 主泵

 2) 極限壓強

 3) 排氣速度

 

?低溫泵

?3.0×10-5 Pa 或更低

?20分鐘內達到 3.0×10-4 Pa

3. 成膜

 1) 蒸發源

 2) 基板保持架

 3) 膜厚均勻性

 

?電子束蒸發(10kw,16kw), 熱阻蒸發 / 擋板共用

?公轉盤,行星盤

?Φ2~8inch均在±5%以下

4. 基板加熱

?紅外燈加熱 (最高350℃

5. 操作模式

?觸摸屏控制 : PC+PLC


6. 附設

 1) 供電

 2) 冷卻水

 3) 壓縮空氣

 4) 放氣(氮氣)

 5) 接地

 

?AC200V,φ3,50/60   Hz,60 kVA

?29 L/min, 20~28℃, 電阻率 5 kΩcm,需要壓力 0.4 MPa, 背壓 0.05 MPa

?0.4 ~0.7 MPa

?0.2 MPa放氣及低溫泵再生

?A & D   (JEM,JEC)














 


ei系列批量型高真空系統

      描述:


      這是一種批量型高真空蒸發系統,用于在基底上沉積金屬和氧化物。由于該系統的操作面板具有實現自動真空和沉積過程的集成控制功能,因此建議用于研發和小規模生產。


      特性:


      支持各種蒸發源(即EB,RH,EB + RH等)。


      基材托架與每個過程相一致的(即剝離,行星,衛星等)。


      支持各種基材; 基材尺寸支持從φ5.08厘米到15.24厘米,矩形基材,硅,化合物,玻璃和陶瓷。


      在LCD觸摸面板上顯示和操作。


      卓越的PC操作系統和功能(獨特功能,數據記錄,維護輔助功能)。


      應用:


      電源設備的復合相關裝置


      LED,LD和高速設備


      各種研發


      其他通用電子設備


     




ei-5


1. 基板

 1) 材料

 2) 尺寸規格

 

?硅(Si) 砷化鎵(GaAs) 玻璃陶瓷等 

?Φ2   ~8inch及各種形狀的基板

2. 真空條件

 1) 主泵

 2) 極限壓強

 3) 排氣速度

 

?低溫泵

?3.0×10-5 Pa 或更低

?20分鐘內達到 3.0×10-4 Pa

3. 成膜

 1) 蒸發源

 2) 基板保持架

 3) 膜厚均勻性

 

?電子束蒸發(10kw,16kw), 熱阻蒸發 / 擋板共用

?公轉盤,行星盤

?Φ2~8inch均在±5%以下

4. 基板加熱

?紅外燈加熱 (最高350℃

5. 操作模式

?觸摸屏控制 : PC+PLC


6. 附設

 1) 供電

 2) 冷卻水

 3) 壓縮空氣

 4) 放氣(氮氣)

 5) 接地

 

?AC200V,φ3,50/60   Hz,60 kVA

?29 L/min, 20~28℃, 電阻率 5 kΩcm,需要壓力 0.4 MPa, 背壓 0.05 MPa

?0.4 ~0.7 MPa

?0.2 MPa放氣及低溫泵再生

?A & D   (JEM,JEC)














 

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